La Chine réalise une percée dans la lithographie EUV, remettant en question la domination de l'ASML dans les semi-conducteurs

La Chine a réussi à développer un prototype de machine de lithographie à ultraviolet extrême (EUV), marquant une étape majeure dans la quête du pays pour une indépendance totale dans le secteur des semi-conducteurs. Selon Reuters, le prototype a été construit à Shenzhen et représente l’aboutissement d’une initiative gouvernementale de six ans visant à se libérer des dépendances aux chaînes d’approvisionnement étrangères. Cette réussite pourrait entraîner un changement dans le paysage mondial de la fabrication de puces, où un géant technologique domine depuis longtemps sans rival.

La fin d’un monopole technologique : comprendre la réussite de l’EUV en Chine

Jusqu’à présent, ASML, une entreprise néerlandaise, détenait presque totalement le monopole de la technologie EUV — l’outil essentiel pour produire les semi-conducteurs les plus avancés au monde. Les systèmes EUV de l’entreprise coûtent environ 250 millions de dollars l’unité, ce qui en fait des actifs indispensables mais coûteux pour des fabricants de puces comme TSMC, Intel et Samsung. Ces machines sont le pilier du processus de fabrication des processeurs de pointe conçus par Nvidia et AMD. Le développement réussi d’un prototype EUV par la Chine remet en question ce monopole de longue date et montre qu’il est possible de réduire la dépendance vis-à-vis des fournisseurs occidentaux de technologies.

Les machines EUV de 250 millions de dollars d’ASML et la course à l’indépendance des puces

Le prototype chinois a réussi à générer de la lumière EUV et est en phase de test, bien qu’il n’ait pas encore produit de puces fonctionnelles. Selon des sources de l’industrie, le projet a impliqué des efforts coordonnés entre plusieurs institutions de recherche et fournisseurs, Huawei jouant un rôle central dans la coordination. D’anciens ingénieurs d’ASML auraient contribué à la rétro-ingénierie de composants clés du système. Des responsables chinois ont explicitement déclaré que l’objectif est de développer des systèmes EUV entièrement domestiques capables de fabriquer des puces avancées, éliminant ainsi le besoin d’importations coûteuses et positionnant la Chine comme autosuffisante dans la production de semi-conducteurs.

Du prototype à la production : le calendrier de la Chine pour la fabrication de puces à base d’EUV

La feuille de route prévoit d’atteindre la capacité de production à grande échelle d’ici 2028 et 2030. Les analystes technologiques ont comparé cette initiative gouvernementale à l’équivalent chinois du projet Manhattan — un effort national massif et coordonné visant une avancée technologique majeure. Si la phase de prototype représente une avancée significative, le chemin vers une production commerciale d’EUV reste techniquement complexe. La démonstration réussie que la technologie EUV peut être reproduite et développée en dehors de l’écosystème d’ASML suggère cependant que le calendrier ambitieux de la Chine pourrait être plus réalisable qu’on ne le pensait, ce qui pourrait remodeler la chaîne d’approvisionnement mondiale en semi-conducteurs dans les années à venir.